在清洗行業(yè)中，根據(jù)清洗時使用的清洗媒體（清洗劑）種類，通常把清洗工藝分為兩大類，即濕式清洗和干式清洗。對真空鍍膜行業(yè)來說，根據(jù)鍍膜基底表面所去除物的種類，對鍍膜前基底的清洗方法一般分為物理清洗和化學(xué)清洗，物理清洗即去除基底表面物理附著物，如粉塵顆粒; 化學(xué)清洗是去除基底表面化學(xué)附著物，如油跡。而不同的基底在真空鍍膜前的清洗方法也各有差異，光學(xué)濾光片鍍膜前清洗主要包括如下幾種。

在探測器制造加工工藝中，很多都涉及清洗技術(shù)，如芯片制作期間的基片清洗，外延生長片的清洗，鍍膜加工前基片的清洗，以及濾光片等光學(xué)元件加工的清洗等。

隨著科技的發(fā)展，半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)對清潔度的要求越來越高。也不斷有復(fù)雜的新洗凈系統(tǒng)和設(shè)備投入使用。在光學(xué)儀器、精密機(jī)械以及電子機(jī)械領(lǐng)域也越來越多地需要精密工業(yè)清洗。無論是半導(dǎo)體薄膜的生長還是基于半導(dǎo)體薄膜的器件制備，襯底的清洗和處理是必不可少的一個環(huán)節(jié)。

激光鏡片鍍膜前經(jīng)過一系列的清洗過程之后，在基片放入真空室的過程中以及在真空室抽取真空的過程中，裝入鍍膜設(shè)備真空室以及進(jìn)行蒸鍍前，基片均有可能被二次污染，從而影響濾光片蒸鍍效果和薄膜特性，通常采用離子束清洗技術(shù)，對基片進(jìn)行的最后一道處理，以消除二次污染，保證基片在鍍膜前的真正清潔。離子束清洗技術(shù)的清潔機(jī)理是: 吸附或黏附在基片上的污物在高能離子束的轟擊下脫離基片; 或通過高熱能的氧離子氧化污物分子，使它易于被離子碰撞而脫離基片。

濾光片的作用很大。廣泛用于攝影界。一些攝影大師拍攝的風(fēng)景畫，為什么主景總是那么突出，是怎樣做到的？這就用到了濾光片。比如你想用相機(jī)起拍一朵黃花，背景是藍(lán)天、綠葉，如果按照平常拍，就不能突出“黃花”這個主題，因為黃花的形象不夠突出。但是，如果在鏡頭前放一個黃色濾光片，阻擋一部分綠葉發(fā)出的綠光、藍(lán)天發(fā)出的藍(lán)光，而讓黃花發(fā)出的黃光大量通過，這樣，黃花就顯得十分明顯了，突出了“黃花”這個主題。