彩色濾光片制造方法包括染色法、顏料分散法、印刷法、電鍍法、噴墨法等，其中顏料分散法由于在顏色特性、質(zhì)量、可靠性等方面均占有優(yōu)勢，因此成為目前彩色濾光片之主流制作方式，而所謂顏料分散法之彩色濾光片制造工程，包括黑色矩陣工程、RGB工程、后工程、出貨工程。

首先在黑色矩陣工程，是先在無堿之硼玻璃基板上以濺鍍形成氧化鉻/鉻之低反射二層膜，作為基板使用，此低反射二層膜即稱為Metal Black。

然后，再將Metal Black側(cè)之正型光阻以旋轉(zhuǎn)涂布(Spin Coating)，再經(jīng)由黑色矩陣的光罩圖案，照射紫外線并加以曝光、光阻顯影后，將Metal Black蝕刻，形成黑色矩陣(BM)圖案。

之后，在黑色矩陣之圖案形成后，接著再到RGB工程，所謂RGB工程就是在開口部形成R、G、B三色圖案的工程，首先將著色為R的彩色光阻以Spin涂裝，經(jīng)由R用圖案光罩，照射紫外線并曝光，再使用堿性系顯影劑將未曝光部份去除，形成第一顏色用的R圖案，再施于攝氏200度以上的后烤(PostCoating)，使圖案具有耐藥性，接著以形成R圖案相同的工程重復(fù)在G及B上，各圖案之間均有黑色矩陣加以隔開，此功能是為增加顯示時(shí)之對比度及避免雜色光產(chǎn)生。

接著在后工程方面，是形成TFT Array基板之相對電極的ITO透明電極層，即為彩色濾光片，出貨工程即為最后檢查及捆包。

彩色濾光片制程技術(shù)關(guān)鍵須注意的是RGB三色間的段差，段差會影響到液晶表現(xiàn)，段差如過大則顯示會有斷層產(chǎn)生，另外，RGB工程為高溫制程，因此原材料選擇須有耐藥性不會發(fā)生衰退，再則BM主要為隔絕RGB三顏色，為提高顏色對比的關(guān)鍵，且BM一般均要求低反射，反射愈低愈好，色彩表現(xiàn)也會愈好。

光學(xué)濾光片窄帶濾光片隨環(huán)境溫度變化發(fā)生的漂移可以歸因于薄膜材料的折射率溫度系數(shù)及其熱膨脹系數(shù)。窄帶濾光片的光學(xué)特性對溫度變化比較敏感。對于具有正溫度系數(shù)的材料,當(dāng)溫度變化很小時(shí),隨溫度的上升,最主要的影響就是波峰向長波方向移動;當(dāng)溫度變化較大時(shí),通常濾光片的濕氣會放出來,有可能引起波峰向短波方向移動。

分析其光學(xué)性能與聚集密度、溫度變化和吸濕等因素之間的關(guān)系。根據(jù)吸濕及溫度引起窄帶濾光片各層膜的厚度誤差,給出了吸濕前后及溫變前后光譜漂移的模型。通過對窄帶濾光片的光學(xué)穩(wěn)定性進(jìn)行分析和初步實(shí)驗(yàn),提出了改善窄帶濾光片光學(xué)性能的措施。