在探測(cè)器制造加工工藝中，很多都涉及清洗技術(shù)，如芯片制作期間的基片清洗，外延生長(zhǎng)片的清洗，鍍膜加工前基片的清洗，以及濾光片等光學(xué)元件加工的清洗等。

隨著科技的發(fā)展，半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)對(duì)清潔度的要求越來(lái)越高。也不斷有復(fù)雜的新洗凈系統(tǒng)和設(shè)備投入使用。在光學(xué)儀器、精密機(jī)械以及電子機(jī)械領(lǐng)域也越來(lái)越多地需要精密工業(yè)清洗。無(wú)論是半導(dǎo)體薄膜的生長(zhǎng)還是基于半導(dǎo)體薄膜的器件制備，襯底的清洗和處理是必不可少的一個(gè)環(huán)節(jié)。

激光鏡片鍍膜前經(jīng)過(guò)一系列的清洗過(guò)程之后，在基片放入真空室的過(guò)程中以及在真空室抽取真空的過(guò)程中，裝入鍍膜設(shè)備真空室以及進(jìn)行蒸鍍前，基片均有可能被二次污染，從而影響濾光片蒸鍍效果和薄膜特性，通常采用離子束清洗技術(shù)，對(duì)基片進(jìn)行的最后一道處理，以消除二次污染，保證基片在鍍膜前的真正清潔。離子束清洗技術(shù)的清潔機(jī)理是: 吸附或黏附在基片上的污物在高能離子束的轟擊下脫離基片; 或通過(guò)高熱能的氧離子氧化污物分子，使它易于被離子碰撞而脫離基片。

光學(xué)濾光片的作用很大。廣泛用于攝影界。一些攝影大師拍攝的風(fēng)景畫，為什么主景總是那么突出，是怎樣做到的？這就用到了濾光片。比如你想用相機(jī)起拍一朵黃花，背景是藍(lán)天、綠葉，如果按照平常拍，就不能突出“黃花”這個(gè)主題，因?yàn)辄S花的形象不夠突出。但是，如果在鏡頭前放一個(gè)黃色濾光片，阻擋一部分綠葉發(fā)出的綠光、藍(lán)天發(fā)出的藍(lán)光，而讓黃花發(fā)出的黃光大量通過(guò)，這樣，黃花就顯得十分明顯了，突出了“黃花”這個(gè)主題。

一般情況下，薄膜制備工藝決定了薄膜都具有柱狀的微結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)使薄膜內(nèi)部存在一定空隙，并造成薄膜器件光學(xué)特性和機(jī)械特性的不穩(wěn)定，因此對(duì)某些在特殊環(huán)境下使用的薄膜必須進(jìn)行各種環(huán)境試驗(yàn)。

1.恒溫恒濕試驗(yàn)。它是最常規(guī)的環(huán)境試驗(yàn)。一般在相對(duì)濕度95%，溫度為55度的環(huán)境下存放6-24小時(shí)；或在40度以下存放10天；或在室溫至80度的環(huán)境下做多次循環(huán)試驗(yàn)，然后檢測(cè)薄膜樣品在試驗(yàn)前后的膜層的機(jī)械和光學(xué)特性的變化。例如：對(duì)于要求較高的窄帶濾光片，就要進(jìn)行恒溫恒濕試驗(yàn)，然后測(cè)試其透射率峰值的位置變化及峰值大小的變化。

2.液體浸蝕。一般是在室溫下將薄膜樣品浸泡在每升含45g鹽的溶液中，或根據(jù)用戶要求在稀釋的酸或堿溶液中浸泡6-24小時(shí)，試驗(yàn)后測(cè)試薄膜的光學(xué)特性和機(jī)械特性，并與試驗(yàn)前測(cè)的數(shù)值進(jìn)行比較。

3.溫度試驗(yàn)測(cè)試。薄膜的熱膨脹系數(shù)一般比基底的熱膨脹系數(shù)大一個(gè)數(shù)量級(jí)，加之膜層存在的內(nèi)應(yīng)力，從而在高溫度情況下，使膜層與膜層之間可能形成位錯(cuò)，因此薄膜在高溫度下使用時(shí)，必須經(jīng)過(guò)烘烤試驗(yàn)。