石英玻璃的制作工藝十分獨(dú)特，與一般玻璃制品有天壤之別，出產(chǎn)石英玻璃有許多難點(diǎn)：熔化溫度高、粘度大、氣泡很難掃除。石英玻璃的質(zhì)料為水晶單一成分，不能加任何熔劑。另外要獲得優(yōu)異功能的石英玻璃有必要是高純度，雜質(zhì)總量小于萬(wàn)分之一，熔化石英玻璃有必要在真空或氫氣維護(hù)下進(jìn)行。

石英玻璃在半導(dǎo)體工業(yè)設(shè)備上，使用溫度經(jīng)常在1000至1300攝氏度之高溫狀態(tài)，在這種狀態(tài)下由于附著不純物導(dǎo)致失透現(xiàn)象發(fā)生，失透部分為石英晶質(zhì)化，晶質(zhì)化的變態(tài)點(diǎn)為275攝氏度，當(dāng)石英玻璃自高溫降至変態(tài)溫度時(shí)，表面失透晶質(zhì)化部分與石英玻璃本身高溫與低溫的相間膨脹系數(shù)不同在急速冷卻下產(chǎn)生不透明的剝離狀，更嚴(yán)重時(shí)會(huì)造成破裂現(xiàn)象產(chǎn)生。為使石英制品能使用更久，就必須注意防止造成石英失透產(chǎn)生的原因，而造成失透的污染源就屬堿金屬、堿土金屬、汗水、口水、油污、塵埃等等。且0.1mg/cm2就會(huì)造成數(shù)十倍或數(shù)百倍的失透量。因此，防止這些污染源附著在石英表面上除了不直接用空手去拿石英外，使用在高溫作業(yè)之前必先做清洗工作以確保石英表面潔凈度。

光學(xué)石英玻璃在紫外、可見(jiàn)、近紅外光譜區(qū)域(185～3 500nm)有優(yōu)異的透過(guò)性能，并具有耐高溫、抗熱沖擊、熱膨脹系數(shù)極小、化學(xué)性能穩(wěn)定、耐射線輻照等獨(dú)特優(yōu)點(diǎn)，是惡劣環(huán)境中光學(xué)精密器件常用的光學(xué)材料，被廣泛用于空間技術(shù)、探測(cè)系統(tǒng)、光譜儀器、光導(dǎo)通訊等領(lǐng)域。

光學(xué)石英玻璃是光學(xué)精密器件的常用材料，制備光學(xué)石英玻璃器件一般要經(jīng)過(guò)切割、研磨、拋光等加工。加工技術(shù)直接決定光學(xué)器件的表、界面質(zhì)量，而表面質(zhì)量（如：表面缺陷、粗糙度、損傷層厚度）又是決定光學(xué)器件性能的關(guān)鍵因素。

借助光學(xué)顯微鏡和AFM,研究光學(xué)石英玻璃加工后表面微觀形貌與損傷層厚度,探索表面缺陷與亞表層損傷形成機(jī)理。結(jié)果表明,切片表面損傷嚴(yán)重,損傷大深度近50μm;粗磨表面次之,損傷大深度近30μm;精磨后表面粗糙度與損傷層厚度皆大大降低;粗拋樣表面存在少量劃痕與破點(diǎn);精拋樣在顯微鏡下觀察不到表面缺陷,損傷層厚度小于1μm。古典拋光表面粗糙度小、光潔度優(yōu)于CMP表面,但CMP表面產(chǎn)生劃痕或破點(diǎn)的幾率遠(yuǎn)小于古典拋光。